SiC-Beschichtung
Ausgezeichnete Oberflächenveredelung durch eine Siliziumcarbid-Schicht
SiC-Beschichtung
Bei Beschichtungen arbeiten wir nach dem Prinzip der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD Chemical Vapor Deposition) . Durch thermische Zersetzung von Gasen werden dünne Schichten auf einem Substrat aufgetragen. Die Schichtdicken bewegen sich von wenigen Nanometern bis hin zu einigen hundert Mikrometern. Durch das langsame Aufwachsen dieser Schichten entstehen hoch geordnete Strukturen, die für die besonders guten Eigenschaften verantwortlich sind.
Was zeichnet unsere SiC-Beschichtung aus?
Wir nutzen die herausstechenden Eigenschaften von Siliziumcarbid (SiC) mit seinem hohen Schmelzpunkt und hoher Zersetzungstemperatur. Dadurch können wir sowohl eine große Bandbreite der Schichtdicke (von 10µm bis 500µm) als auch große Formate (ø 1,7 m x 2 m) anbieten. In Kombination mit einer Hochtemperatur-Reinigung entstehen hochreine, beschichtete Bauteile
Wo kommt unsere SiC-Beschichtung zum Einsatz?
Unsere High-End-Beschichtungen finden beispielsweise in der Raumfahrtindustrie Anwendung, unter anderem als Beschichtung von Satelliten-Spiegeln oder Weltraumspiegeln für die Telekommunikation. Auch bei Bauteilen in kritischen Ofenatmosphären sowie in der Halbleiterindustrie kommen sie zum Einsatz.
Besondere Eigenschaften unserer SiC-Beschichtungen:
- Möglich auf Graphit und CFC
- Oxidationsschutz
- Low-Particle-Release
- Porenfreie Schicht